如今，各國都在發展信息技術產業，這主要是因為信息技術的發展對于國家來說是至關重要的，而半導體則是當代信息技術產業的核心。作為一個高能耗的行業，在半導體產品制造過程中，由于生產設備的精密性和生產工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其對作為半導體行業血脈的超純水設備更是高之又高。

超純水可用于化學試劑處理后的晶圓清洗，化學試劑稀釋，光刻光學系統浸沒以及作為冷卻液的補充應用在一些關鍵應用中。由于半導體生產設備的精密性和生產工藝的復雜性，超純水的質量直接影響到產品的品質和性能，因此半導體行業往往需要超高等級的超純水質量。

嚴苛的要求,復雜的制備工藝,給半導體超純水制備行業帶來頗高的準入門檻,也給一些擁有核心自研優勢的企業創造出發展機遇。作為產業鏈上的重要一環,萊特萊德積極探索,以優質的超純水工藝推動半導體產業發展。萊特萊德專注于芯片等半導體制造業多年,為半導體制造等行業客戶,提供超純水生產解決方案及裝備。

萊特萊德采用預處理+反滲透+EDI+拋光混床組合形式的超純水設備制備出高質量的超純水。該設備具有高效低能、運行成本低，水資源利用率高、體積較小、維修量小等優點。設備應用的EDI模塊水處理過程中不需要添加任何化學品，不僅減少了化學品運輸問題，同時降低了系統運行費用。本模塊不會有酸堿廢液產生，所以不需要酸堿中和池，一般情況下，EDI水處理系統產出的濃水可以回收再利用。

整套設備主要是消耗電量來維持系統運行，其耗電量比傳統混床工藝低，無需樹脂更換，自動化性能強，無需人工操作。設備能夠連續穩定地制備品質優良的超純水，采用的設計結構相對緊湊，所以其占地非常小，可以為企業節省很多空間，在符合芯片生產用水水質標準的同時可以使水資源的利用率達到95%~99%，有效提升了水資源利用率。

萊特萊德超純水設備生產超純水，精度可達美標E1.3.采用膜表面嫁接技術達到更好的脫鹽率，能連續、穩定地生產高純度的超純水。已成功應用到晶圓、電子芯片、集成電路、精密儀器、電鍍涂裝、試劑稀釋、氟化工等多個領域。